Produktu hau bakterioen aurkako akabera agente eraginkorra da, nano zilar inorganikoz osatuta dagoena.Kotoia, nahastutako ehuna, zuntz kimikoa, ehundu gabeko ehuna, larrua, eta abarrentzako oso aplikagarria da. Ez du eraginik izango heldulekuan, kolorean, ehunaren egoeran, amaitutako ehunaren bakterioen aurkako tasak % 99 baino gehiago mantentzen du 50 garbitu ondoren. aldiz.

Parametroa:

Ezaugarri:

Agenteak 650 bakterio, onddo eta beste mikroorganismo mota baino gehiago hil ditzake minutu gutxitan;

Agentea bakterioen zelula hormekin azkar konbinatu daiteke esterilizazioa eraginkortasunez lortzeko;

Iraupen luzeko antibacterialak, nanozilarrearen polimerizazioak eta ehun-azalak eraztun-formako egitura bat osatzen dute, amaitutako ehuna garbigarri bihurtzen duena;

Erradikal talde hidrofiliko eta lipofiliko finkoek ehunak iragazkortasun sendoa eta horia ez izatea eragiten dute;

Errepikagarritasun ona, oxigenoaren metabolismoaren entzimarekin (-SH) konbinatu ondoren, zilarra ere askatu eta berriro erabil daiteke.

Aplikazio:

Nahastutako zuntzetarako erabiltzen da, zuntz kimikorako, ehundu gabeko ehunetarako, etab.

Erabilera:

Ihinztadura, betegarria, murgilketa metodoak, gomendatutako dosia % 2-5 da, eta garbiketa-denborak dosiarekin lotuta daude.

Ihinztatze metodoa: busti ezazu lan-soluzioa ehunaren gainazalean zuzenean.

Prozesua: ihinztadura → lehortzea（100-120 ℃）;

Betegarriaren metodoa: aplikatu bira-motako ehunari.

Prozesua: betegarria → lehortzea (100-120 ℃) ​​→ ontzea (150-160 ℃);

Murgiltze-metodoa: aplikatu puntuzko arropetan (eskuoihala, bainurako eskuoihala, galtzerdi, maskara, maindirea, ohe-poltsa, ezpainzapia), jantzietan (kotoizko jertsea, alkandora, jertsea, barruko arropa, forrua), etab.

Prozesua: murgiltzea → ureztatu (botatutako disoluzioa birziklatu eta murgiltze deposituan gehitu) → lehortzea (100-120 ℃).

20 garbiketa aldiz: %2 gehituta.

30 garbiketa aldiz: %3 gehituta.

50 garbiketa aldiz: %5 gehitu.

Enbalatzea:

Enbalatzea: 20 kg/upel.

Biltegiratzea: leku fresko eta lehor batean, eguzkia esposizio saihestuz.